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本申请公开了一种散射条添加方法，涉及微电子版图数据光学修正领域。该方法包括获取目标图形；在所述目标图形的外侧添加k圈散射条，每圈散射条包括线条形散射条和种子散射条；k为正整数；根据散射条之间的最小间距和目标值限制性放大所述种子散射条；滤除线...
该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。

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