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本发明公开了一种珐琅彩料及制备方法及在瓷胎画珐琅文物修复上的应用，所述珐琅彩料包括的化学组分和各组分的质量百分比如下：二氧化硅：33%‑51%，三氧化二铝：0%‑3.8%，氧化硼：8%‑19%，氧化铅：31%‑53%，氧化钙+氧化镁：0%‑...该专利属于佛山市天工嘉荟文化科技有限公司;故宫博物院所有，仅供学习研究参考，未经过佛山市天工嘉荟文化科技有限公司;故宫博物院授权不得商用。