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一种带遮挡的溅射沉积系统和方法，该系统包括一个工艺模块，该工艺模块包括一个配置为接收一个移动衬底的真空外壳，设置在该真空外壳中的多个溅射靶，每个溅射靶包括一种靶材，以及一个设置在该衬底和相邻溅射靶的间隙空间之间的外部遮蔽件。该外部遮蔽件可以...
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