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一种半导体工艺部件及其形成方法、以及半导体工艺设备，其中形成方法包括：提供第一基板；在所述第一基板内形成第一沟槽；在所述第一沟槽内形成第一导电层；在所述第一导电层上和第一基板上形成第一介质层；提供第二基板；将第一基板朝向第二基板进行第一键合...
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