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本发明提供一种可控束斑离子发射装置及抛光蚀刻方法，该可控束斑离子发射装置包括均为圆桶且同轴设置的气体电离装置、离子加速电极、束斑调节装置以及离子发射装置固定容器，其中束斑调节装置上设置有至少两个聚焦电极，气体电离装置、离子加速电极、聚焦电极...
该专利属于中国科学院地质与地球物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院地质与地球物理研究所授权不得商用。

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