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本发明涉及纳米压印光刻(NIL)方法领域，更具体地涉及用于在基底上提供溶胶‑凝胶图案化层的软NIL方法。具体地说，该方法包括当将软模具施加到涂覆有溶胶‑凝胶膜的基底上时通过改变溶剂的相对压力将溶胶‑凝胶膜的溶剂吸收调节至10‑50体积％，优...该专利属于艾克斯-马赛大学;法国国家科学研究中心;索邦大学;巴黎第十一大学所有，仅供学习研究参考，未经过艾克斯-马赛大学;法国国家科学研究中心;索邦大学;巴黎第十一大学授权不得商用。