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热处理装置制造方法及图纸
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文档序号:22976101
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本发明提供一种无论基座上是否保持有衬底,均能准确地测定基座的温度的热处理装置。在进行作为处理对象的半导体晶圆的热处理前,将虚设晶圆(DW)载置于石英制的基座(74),从卤素灯(HL)进行光照射而将基座(74)预热。控制部基于通过放射温度计(...
该专利属于株式会社斯库林集团所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社斯库林集团授权不得商用。
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