温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型涉及微波等离子体气相沉积技术领域，具体涉及一种微波射频等离子体化学气相沉积装置，包括腔体，所述腔体从上至下依次设置有：电离部，包括电离腔和从上到下依次设置于电离腔顶部的点火装置、进气口和压缩形波导管；气相沉积部，包括气相沉积腔和绕...
该专利属于武汉大学所有，仅供学习研究参考，未经过武汉大学授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。