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本实用新型公开了一种磁控溅射过程中稳定传输基片载具的装置，包括：腔体、设在腔体底部的传动机构、滚动设置在传动机构上的载具、设在载具一侧的永磁体、设在载具一侧且与永磁体不同侧的靶材；所述载具包括：载物板、设在载物板上的侧滑轨、固定在腔体顶部且...
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