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本发明公开了一种具有高激光损伤阈值的激光薄膜的制备方法，在可牺牲性基底上采用离子束溅射技术进行二氧化硅基底的重建，然后在新建的二氧化硅基底表面沉积薄膜材料，获得相应的光学功能，最后通过水浸泡溶解的方法除去原始的可牺牲性基底，获得高阈值薄膜。...
该专利属于中国矿业大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国矿业大学授权不得商用。

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