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本实用新型提供一种GaN基半导体器件结构,GaN基半导体器件结构包括:GaN层,GaN层包括多个间隔排布的GaN凸起,相邻的GaN凸起之间包括凹槽;绝缘层,绝缘层覆盖凹槽的表面,且显露GaN凸起的顶部。本实用新型通过绝缘层覆盖凹槽的表面,减...该专利属于上海芯元基半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海芯元基半导体科技有限公司授权不得商用。
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本实用新型提供一种GaN基半导体器件结构,GaN基半导体器件结构包括:GaN层,GaN层包括多个间隔排布的GaN凸起,相邻的GaN凸起之间包括凹槽;绝缘层,绝缘层覆盖凹槽的表面,且显露GaN凸起的顶部。本实用新型通过绝缘层覆盖凹槽的表面,减...