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本发明提供等离子体产生装置，具备：电力供给装置，向配置于反应室的多个电极供给电力；处理气体供给装置，向上述反应室供给处理气体；及控制装置，控制上述电力供给装置和上述处理气体供给装置的工作，在向上述反应室供给处理气体的状态下向上述电极供给电力...
该专利属于株式会社富士所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社富士授权不得商用。

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