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本发明提供一种不需要伴随于蚀刻处理的掩蔽处理、并且能够将侧蚀的影响抑制到最小限度的液晶面板制造方法。液晶面板制造方法至少包括改性线形成步骤、槽形成步骤、蚀刻步骤和切割步骤。在改性线形成步骤中，针对阵列基板及彩色滤光片基板形成具有比其它部位更...
该专利属于株式会社NSC所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社NSC授权不得商用。

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