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高压半导体装置制造方法及图纸
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文档序号:22445740
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本发明提供了一种高压半导体装置,包含半导体衬底,具有第一导电类型,源极区和漏极区设置于半导体衬底上,其中漏极区具有与第一导电类型相反的第二导电类型,且源极区包含分别具有第一导电类型和第二导电型的两个部分,第一隔离结构和第二隔离结构分别设置于...
该专利属于新唐科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过新唐科技股份有限公司授权不得商用。
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