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一种面内双轴压阻加速度传感器芯片及其制备方法技术
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文档序号:22381685
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一种面内双轴压阻加速度传感器芯片及其制备方法,芯片采用SOI硅片制成,包括芯片外框架,芯片外框架每一侧中部设有固定岛,支撑梁为“L”型结构,其较长段的一端通过固定岛固定于芯片外框架,另外较短段依次与延伸梁和质量块相连,敏感压阻微梁设置于延伸...
该专利属于西安交通大学所有,仅供学习研究参考,未经过西安交通大学授权不得商用。
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