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本实用新型公开一种可以自由升降的真空气氛淬火CVD系统，该系统包括安装壳体、升降调节机构、加热机构、淬火淀积机构，加热机构、淬火淀积机构设于安装壳体的内壁处，升降调节机构包括升降托台、升降调节器、自动升降台、升降杆；加热机构包括加热器、防对...
该专利属于合肥百思新材料研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥百思新材料研究院有限公司授权不得商用。

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