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本发明提供一种阵列基板的制备方法，制备方法包括：提供基板；在基板上依次制备层叠设置的有源层、栅绝缘层、栅极层、保护层，并对保护层图案化形成保护层图案；以保护层图案为掩模，对栅极层进行刻蚀形成栅极；以保护层图案为掩模，对有源层的第一区域进行导...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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