温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及蒙版框架及其制备方法、以及蒙版，所述蒙版框架具备：框架基材、在上述框架基材的表面形成的厚度为2.0~7.5μm的黑色的阳极氧化被膜、和在上述阳极氧化被膜上形成的透明的聚合物电沉积涂膜，所述蒙版具备：该蒙版框架、和在上述蒙版框架的一...
该专利属于信越化学工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过信越化学工业株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。