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本发明公开了一种铜铟镓硒镀膜设备的真空腔室，包括腔体、前门板和背板，所述腔体的前端和后端分别开设有第一开口和第二开口，腔体内设有隔板，隔板将腔体分隔为腔体上部和腔体下部，腔体上部安装有卷绕装置，腔体下部安装有加热装置和蒸发源，且腔体与真空系...
该专利属于北京汉能薄膜发电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京汉能薄膜发电技术有限公司授权不得商用。

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