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本发明属于薄膜制备领域，涉及一种用于细管内壁镀膜的低温化学气相沉积装置，包括等离子体放电电极、真空绝缘密封装置、放电管、两个进气管，细管容器、细管容器固定装置、真空位移控制装置和真空室。等离子体放电电极固定在真空绝缘密封装置上，放置在放电管...
该专利属于大连理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过大连理工大学授权不得商用。

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