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本发明公开了一种用于反应釜的宽禁带半导体纳米瓷釉材料，它是由如下重量份数的组分组成：基体剂30～35份，助溶剂12～16份，乳浊剂2～5份，密着剂3～5份，宽禁带半导体纳米粉体30～35份，石墨烯0.2～1份，纳米银粉2～4份。本发明提供的...
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