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用于改进的FINFET的系统、方法和装置制造方法及图纸
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下载用于改进的FINFET的系统、方法和装置的技术资料
文档序号:22083546
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为了避免与电介质上的低密度旋涂相关联的问题,本公开的一些示例包括finFET,该finFET含有具有不同密度的氧化物材料。例如,一个这样的finFET可以包括位于相邻鳍之间的间隙中的氧化物材料,氧化物材料直接接触多个鳍中的相邻鳍,多个鳍具有...
该专利属于高通股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过高通股份有限公司授权不得商用。
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