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基体保护膜、附着防止构件及附着防止构件的形成方法技术
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下载基体保护膜、附着防止构件及附着防止构件的形成方法的技术资料
文档序号:22082839
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提供能够超过基于静电排斥力的降低物质附着的效果地降低物质向基体表面的附着的基体保护膜。在基体1表面上形成包含带电物质并具有静电排斥力的第一层(电荷保持层3),在该第一层的表面上形成对表面自由能进行控制的第二层(由官能团长度小于1nm并且50...
该专利属于星和电机株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过星和电机株式会社授权不得商用。
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