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本实用新型涉及一种反应溅射系统腔体进气装置，包括底座和进气管，底座安装在反应溅射系统的真空腔体上方，其中，还包括通气圆环和八个气嘴。本实用新型的优点在于：结构简单，制造和改装的成本低廉，通过改变进气方式，有效地降低气体分布不均匀对工艺的影响...
该专利属于王世宽所有，仅供学习研究参考，未经过王世宽授权不得商用。

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