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本发明公开了一种用于晶圆生产离子注入的控制装置，其结构包括活动道、衔接操作头、离子校对输出口、护环，活动道安装于衔接操作头内部，离子校对输出口包括校对口杆、直射道、完整卡扣、灵活压球、整体囊、隔层、定向顶杆，当离子注入口受到损坏时，其前者将...
该专利属于祁金发所有，仅供学习研究参考，未经过祁金发授权不得商用。

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