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本发明公开了硅透镜阵列设计方法，本发明为了解决现有技术中成本高和装配难度大的缺点，具有以下步骤：S1，选择合适的硅阵列透镜，S2，将S1中硅阵列透镜原出光面磨成45°斜面，S3，根据上述S2设置有PD侧，S4，根据上述S2设置有平行光线侧，...
该专利属于合肥嘉东光学股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥嘉东光学股份有限公司授权不得商用。

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