一种硅透镜阵列设计方法技术

本发明专利技术公开了硅透镜阵列设计方法，本发明专利技术为了解决现有技术中成本高和装配难度大的缺点，具有以下步骤：S1，选择合适的硅阵列透镜，S2，将S1中硅阵列透镜原出光面磨成45°斜面，S3，根据上述S2设置有PD侧，S4，根据上述S2设置有平行光线侧，S5，根据上述S2设置有镜侧，S6，完成上述S1‑S5步骤后，光线在此45度斜面发生全反射后偏折45°射出，硅阵列透镜采用融熔法制备球冠形的光致抗蚀剂掩膜，用离子束刻蚀实现球冠形向硅片上转移，各硅透镜间距为0.25～0.75mm，硅透镜外径为0.2～0.7mm，硅透镜光学面为凸球面，曲率半径为3.5～3.7mm。本发明专利技术采用硅阵列透镜与45°转折棱镜一体化设计，一个光学元件完成两个光学元件的功能，具有降低成本和降低装配难度的效果。

A Design Method of Silicon Lens Array

【技术实现步骤摘要】
一种硅透镜阵列设计方法
本专利技术涉及光学设备
，尤其涉及一种硅透镜阵列设计方法。
技术介绍
光学是物理学的重要分支学科，也是与光学工程技术相关的学科。狭义来说，光学是关于光和视见的科学，而今天常说的光学是广义的，是研究从微波、红外线、可见光、紫外线直到X射线和γ射线的宽广波段范围内的电磁辐射的产生、传播、接收和显示，以及与物质相互作用的科学，着重研究的范围是从红外到紫外波段，它是物理学的一个重要组成部分，光学是研究光的行为和性质的物理学科，光是一种电磁波，在物理学中，电磁波由电动力学中的麦克斯韦方程组来描述，同时，光具有波粒二象性，光的粒子性则需要用量子力学来描述。目前应用于光模块中的硅阵列透镜需要再配合一个45°转折棱镜实现光线传输方向的偏转，但这样会造成以下问题：其一，增加成本；其二，由于要保证硅阵列透镜与45°转折棱镜之间的平行度，装配难度增大。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种硅透镜阵列设计方法。为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：一种硅透镜阵列设计方法，其特征在于，包括以下步骤：S1，选择合适的硅阵列透镜。S2，将S本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅透镜阵列设计方法，其特征在于，包括以下步骤：S1，选择合适的硅阵列透镜。S2，将S1中硅阵列透镜原出光面磨成45°斜面。S3，根据上述S2设置有PD侧。S4，根据上述S2设置有平行光线侧。S5，根据上述S2设置有镜侧。S6，完成上述S1‑S5步骤后，光线在此所述45度斜面发生全反射后偏折45°射出。

【技术特征摘要】
1.一种硅透镜阵列设计方法，其特征在于，包括以下步骤：S1，选择合适的硅阵列透镜。S2，将S1中硅阵列透镜原出光面磨成45°斜面。S3，根据上述S2设置有PD侧。S4，根据上述S2设置有平行光线侧。S5，根据上述S2设置有镜侧。S6，完成上述S1-S5步骤后，光线在此所述45度斜面发生全反射后偏折45°射出。2.根据权利要求1所述的一种硅透镜阵列设计方法，其特征在于，所述硅阵列透镜采用融熔法制备球冠形的光致抗蚀剂掩膜，用离子束刻蚀实现球冠形向硅片上转移，有效地在较低衬底温度...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡卫东，刘侃，夏全，
申请(专利权)人：合肥嘉东光学股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34