温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

在一个实施方式中，提供一种在基板上形成钴层的方法。方法包含在基板上形成阻挡层和/或衬垫层，基板具有形成在基板的第一表面中的特征限定结构，其中阻挡层和/或衬垫层形成在特征限定结构的侧壁与底表面上。方法进一步包含将基板暴露于钌前驱物，以在阻挡层...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。