下载栅极增强型光控可控硅静电释放器件结构及其制作方法的技术资料

文档序号:22059097

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本发明公开了一种栅极增强型光控可控硅静电释放器件结构,包括衬底P‑Sub;衬底P‑Sub中设有DN‑Well区;DN‑Well区中设有第一P‑Well区和第二P‑Well区;第一P‑Well区中设有第一多晶硅栅、第二P+注入区;第二P‑We...
该专利属于湖南师范大学所有,仅供学习研究参考,未经过湖南师范大学授权不得商用。

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