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本实用新型涉及一种化学机械式研磨装置用承载头的卡环及具备其的承载头，承载头，包括：承载头本体；隔膜，其加装于承载头本体的下面，将基板加压于研磨垫；卡环，其结合于所述承载头本体，约束所述基板的侧面，包括结合于承载头本体的卡环主体、在所述卡环主...
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