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本发明提供一种蚀刻装置，该蚀刻装置包括：蚀刻室，所述蚀刻室内容纳有蚀刻液；所述蚀刻室的相对的两个侧壁上分别设置有入口和出口，所述出口的位置与所述入口的位置对应；所述出口和所述入口处均设置有阻挡部，所述阻挡部包括第一子阻挡部和第二子阻挡部，所...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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