一种蚀刻装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种蚀刻装置，该蚀刻装置包括：蚀刻室，所述蚀刻室内容纳有蚀刻液；所述蚀刻室的相对的两个侧壁上分别设置有入口和出口，所述出口的位置与所述入口的位置对应；所述出口和所述入口处均设置有阻挡部，所述阻挡部包括第一子阻挡部和第二子阻挡部，所述第一子阻挡部位于所述出口或所述入口的靠近所述基板的一侧，其中所述蚀刻室内设置有基板；传输装置，设于所述基板的下方，所述传输装置包括至少一第一滚轮和至少一第二滚轮，所述第一滚轮的直径大于所述第二滚轮的直径，所述第一滚轮的顶部的初始高度与所述第一子阻挡部的顶部的初始高度相等。本发明专利技术的蚀刻装置，能够避免在蚀刻中产生Mura，提高了产品良率。

An Etching Device

【技术实现步骤摘要】
一种蚀刻装置
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种蚀刻装置。
技术介绍
显示面板的制作包括蚀刻工艺，蚀刻包括湿法蚀刻和干法蚀刻，目前湿法蚀刻的模式包括喷淋模式、浸泡模式以及涂布模式。但是现有的蚀刻装置的蚀刻室的侧壁上设置有阻挡部，当从喷淋模式进入浸泡模式时，需要通过滚轮将基板移动至蚀刻室内，由于滚轮的位置较低，因此需要将入口侧的阻挡部向下移动，以便滚轮将基板传送至蚀刻室内，而当入口侧的阻挡部向下移动时，导致蚀刻室的蚀刻液的液面下降，因而容易在蚀刻中产生Mura，降低了产品良率。因此，有必要提供一种蚀刻装置，以解决现有技术所存在的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种蚀刻装置，能够提高产品良率。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种蚀刻装置，包括：蚀刻室，所述蚀刻室内容纳有蚀刻液；所述蚀刻室的相对的两个侧壁上分别设置有入口和出口，所述出口的位置与所述入口的位置对应；所述出口和所述入口处均设置有阻挡部，所述阻挡部包括第一子阻挡部和第二子阻挡部，所述第一子阻挡部位于所述出口或所述入口的靠近所述基板的一侧，其中所述蚀刻室内设置有基板；喷淋部，设于所述蚀刻室的上方；所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蚀刻装置，其特征在于，包括：蚀刻室，所述蚀刻室内容纳有蚀刻液；所述蚀刻室的相对的两个侧壁上分别设置有入口和出口，所述出口的位置与所述入口的位置对应；所述出口和所述入口处均设置有阻挡部，所述阻挡部包括第一子阻挡部和第二子阻挡部，所述第一子阻挡部位于所述出口或所述入口的靠近所述基板的一侧，其中所述蚀刻室内设置有基板；喷淋部，设于所述蚀刻室的上方；所述喷淋部用于向所述基板喷淋蚀刻液；至少一液刀，设于所述喷淋部和所述基板之间；所述液刀用于向所述基板涂布蚀刻液；传输装置，设于所述基板的下方，所述传输装置包括至少一第一滚轮和至少一第二滚轮，所述第一滚轮的直径大于所述第二滚轮的直径，所述第一滚轮的顶...

【技术特征摘要】
1.一种蚀刻装置，其特征在于，包括：蚀刻室，所述蚀刻室内容纳有蚀刻液；所述蚀刻室的相对的两个侧壁上分别设置有入口和出口，所述出口的位置与所述入口的位置对应；所述出口和所述入口处均设置有阻挡部，所述阻挡部包括第一子阻挡部和第二子阻挡部，所述第一子阻挡部位于所述出口或所述入口的靠近所述基板的一侧，其中所述蚀刻室内设置有基板；喷淋部，设于所述蚀刻室的上方；所述喷淋部用于向所述基板喷淋蚀刻液；至少一液刀，设于所述喷淋部和所述基板之间；所述液刀用于向所述基板涂布蚀刻液；传输装置，设于所述基板的下方，所述传输装置包括至少一第一滚轮和至少一第二滚轮，所述第一滚轮的直径大于所述第二滚轮的直径，所述第一滚轮的顶部的初始高度与所述第一子阻挡部的顶部的初始高度相等。2.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述第二滚轮的顶部的初始高度小于所述第一滚轮的顶部的初始高度。3.根据权利要求2所述的蚀刻装置，其特征在于，所述第二滚轮的顶部的初始高度与所述第一阻挡部的初始高度之间的差值的范围为0.1cm...

【专利技术属性】
技术研发人员：林钦遵，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44