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本发明涉及对处理容器内的部件进行清洁的方法、半导体器件的制造方法、衬底处理装置、及记录介质。本发明的课题为提高处理容器内的清洁处理的均匀性。通过将包括下述工序的循环进行规定次数，从而对处理容器内的部件进行清洁：工序(a)，从至少三个供给部中...
该专利属于株式会社国际电气所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社国际电气授权不得商用。

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