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本发明提供一种基板及制备方法，该基板包括第一膜层，第二膜层，涂布在所述第一膜层的涂布区域，其中，在所述涂布区域的边缘区域，所述第一膜层形成有凹槽；在本发明中，基于第一膜层形成的凹槽，能缓冲流体状的第二膜层向外扩散或者在边缘堆积，提升边缘膜厚...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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