基板及制备方法技术

本发明专利技术提供一种基板及制备方法，该基板包括第一膜层，第二膜层，涂布在所述第一膜层的涂布区域，其中，在所述涂布区域的边缘区域，所述第一膜层形成有凹槽；在本发明专利技术中，基于第一膜层形成的凹槽，能缓冲流体状的第二膜层向外扩散或者在边缘堆积，提升边缘膜厚的均匀性，同时在凹槽的设置区域，不会出现堆积或者阻挡回流等现象，进一步提升边了缘膜厚的均匀性，缓解了现有涂布技术存在的膜层边缘厚度不均的技术问题。

Substrate and preparation method

【技术实现步骤摘要】
基板及制备方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种基板及制备方法。
技术介绍
在显示面板制备工艺中，有些功能膜层，如配向膜层、有机绝缘光阻层、色阻层、支撑柱等，需要使用涂布工艺在已有膜层上制备，如果膜层使用材料粘度较低以及易流动，这些功能膜层成膜后，膜层边缘容易出现膜厚不均等问题，从而导致周边的显示不均，严重影响显示装置的显示品质。为了解决这个问题，如图1所示，现有技术在非显示区设置外凸挡墙11，但是膜层材料会在外凸挡墙11的位置堆积或者阻挡回流，引起膜层边缘膜厚不均。即，现有涂布技术存在膜层边缘厚度不均的技术问题，需要改进。
技术实现思路
本专利技术提供一种基板及制备方法，以缓解现有涂布技术存在的膜层边缘厚度不均的技术问题。为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案如下：本专利技术实施例提供一种基板，其包括：第一膜层；第二膜层，涂布在所述第一膜层的涂布区域；其中，在所述涂布区域的边缘区域，所述第一膜层形成有凹槽。在本专利技术实施例提供的基板中，所述凹槽贯穿所述第一膜层。在本专利技术实施例提供的基板中，所述凹槽的深度大于所述第一膜层厚度的一半。在本专利技术实施例提供的基板中，所述边缘本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板，其特征在于，包括：第一膜层；第二膜层，涂布在所述第一膜层的涂布区域；其中，在所述涂布区域的边缘区域，所述第一膜层形成有凹槽。

【技术特征摘要】
1.一种基板，其特征在于，包括：第一膜层；第二膜层，涂布在所述第一膜层的涂布区域；其中，在所述涂布区域的边缘区域，所述第一膜层形成有凹槽。2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述凹槽贯穿所述第一膜层。3.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述凹槽的深度大于所述第一膜层厚度的一半。4.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述边缘区域位于非显示区内。5.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述凹槽为连续凹槽，或者不连续凹槽。6.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述凹槽为点状凹槽，或者块状凹槽。7.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：俞云，张稚敏，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44