温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种磁流变抛光斑提取方法，本发明的方法利用人类大脑视觉皮层中的双拮抗神经元的色彩和空间对抗机制对磁流变抛光斑进行边缘检测并进行提取，并利用该神经元的空间稀疏反应约束特点来抑制磁流变抛光斑中的噪声信号和其他干扰信息；本发明解决了目...
该专利属于中国工程物理研究院机械制造工艺研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国工程物理研究院机械制造工艺研究所授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。