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本实用新型公开了一种半导体晶片酸洗装置,包括底座与承载台,底座中间位置开设有清洗槽,清洗槽顶部设置有喷洗部件,底座底部设置有排污口,排污口与清洗槽连通,排污口上固定安装有电磁阀,底座顶部固定设置有支撑架,承载台固定安装在支撑架顶部,承载台上...该专利属于山东晶导微电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过山东晶导微电子股份有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种半导体晶片酸洗装置,包括底座与承载台,底座中间位置开设有清洗槽,清洗槽顶部设置有喷洗部件,底座底部设置有排污口,排污口与清洗槽连通,排污口上固定安装有电磁阀,底座顶部固定设置有支撑架,承载台固定安装在支撑架顶部,承载台上...