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确定由图案形成装置上的有限厚度的结构引起的辐射的散射的方法制造方法及图纸
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下载确定由图案形成装置上的有限厚度的结构引起的辐射的散射的方法的技术资料
文档序号:21841135
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一种方法,包括:获得图案形成装置的薄掩模透射函数和用于光刻过程的M3D模型,其中所述薄掩模透射函数是连续透射掩模(CTM),所述M3D模型至少表示能够归因于所述图案形成装置上的结构的多边缘的M3D效应的一部分;通过使用所述薄掩模透射函数和所...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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