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本申请提供一种阵列基板及其制备方法，通过将形成有缓冲层的阵列基板置于反应室内并通入氧气，使阵列基板在氧气气氛下加热至预设温度，并对氧气加入高频振荡电源，进行退火制程；使氧气转化为等离子体状态，产生的氧离子和/或氧自由基用于修补缓冲层表面的氧...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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