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本发明涉及用于X光机的自动曝光剂量调节方法和系统及存储介质。在一实施方式中，X光机包括发生器和探测器，用于X光机的自动曝光剂量调节方法包括：以选定预曝光参数进行预曝光，获得预曝光图像，基于所述预曝光图像计算所述探测器端的预曝光剂量DoseT...
该专利属于上海西门子医疗器械有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海西门子医疗器械有限公司授权不得商用。

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