用于X光机的自动曝光剂量调节方法和系统及存储介质技术方案

本发明专利技术涉及用于X光机的自动曝光剂量调节方法和系统及存储介质。在一实施方式中，X光机包括发生器和探测器，用于X光机的自动曝光剂量调节方法包括：以选定预曝光参数进行预曝光，获得预曝光图像，基于所述预曝光图像计算所述探测器端的预曝光剂量DoseT‑PRE；根据所述选定预曝光参数计算所述发生器端的曝光点EPT‑PRE；确定探测器端的目标剂量DoseTarget；基于所述探测器端的预曝光剂量DoseT‑PRE和目标剂量DoseTarget以及所述发生器端的曝光点EPT‑PRE计算探测器端的曝光点EPT。本发明专利技术提出的自动曝光剂量调节方案耗时短、图像采集帧数少、流程简单、结果准确，同时也降低对发生器性能的要求。

Automatic exposure dose adjustment method and system for X-ray machine and storage medium

【技术实现步骤摘要】
用于X光机的自动曝光剂量调节方法和系统及存储介质
本专利技术涉及医疗器械
，特别是一种用于X光机的自动曝光剂量调节方法和系统及存储介质。
技术介绍
目前，具有自动曝光剂量调节的X光机被广泛应用于医疗检查和手术，例如C臂X光机等。通常，X光机基于其发生器来调节曝光剂量，这对发生器的性能提出了较高要求。这样一来，不仅X光机的成本较高，并且通过这种方式实现的曝光剂量调节仍存在一些不足之处，如过程复杂、消耗时间较多、图像采集帧数较多且调节结果偏差较大。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术一方面提出了一种用于X光机的自动曝光剂量调节方法，所述X光机包括发生器和探测器，所述方法包括：以选定预曝光参数进行预曝光，获得预曝光图像，基于所述预曝光图像计算所述探测器端的预曝光剂量DoseT-PRE；根据所述选定预曝光参数计算所述发生器端的曝光点EPT-PRE；确定探测器端的目标剂量DoseTarget；基于所述探测器端的预曝光剂量DoseT-PRE和目标剂量DoseTarget以及所述发生器端的曝光点EPT-PRE计算探测器端的曝光点EPT。其中，可以通过如下公式计算所述探测器端的曝光点EPT：EPT本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于X光机的自动曝光剂量调节方法，所述X光机包括发生器和探测器，所述方法包括：以选定预曝光参数进行预曝光，获得预曝光图像，基于所述预曝光图像计算所述探测器端的预曝光剂量DoseT‑PRE；根据所述选定预曝光参数计算所述发生器端的曝光点EPT‑PRE；确定探测器端的目标剂量DoseTarget；基于所述探测器端的预曝光剂量DoseT‑PRE和目标剂量DoseTarget以及所述发生器端的曝光点EPT‑PRE计算探测器端的曝光点EPT。

【技术特征摘要】
1.一种用于X光机的自动曝光剂量调节方法，所述X光机包括发生器和探测器，所述方法包括：以选定预曝光参数进行预曝光，获得预曝光图像，基于所述预曝光图像计算所述探测器端的预曝光剂量DoseT-PRE；根据所述选定预曝光参数计算所述发生器端的曝光点EPT-PRE；确定探测器端的目标剂量DoseTarget；基于所述探测器端的预曝光剂量DoseT-PRE和目标剂量DoseTarget以及所述发生器端的曝光点EPT-PRE计算探测器端的曝光点EPT。2.如权利要求1所述的用于X光机的自动曝光剂量调节方法，其中，通过如下公式计算所述探测器端的曝光点EPT：EPT＝10lg(DoseTarget/DoseT-PRE)+EPT-PRE。3.如权利要求2所述的用于X光机的自动曝光剂量调节方法，还包括：根据一器官程序设定曝光剂量DoseOGP和放大系数Z；其中，通过如下公式计算所述探测器端的目标剂量DoseTarget：DoseTarget＝DoseOGP*Z。4.如权利要求2所述的用于X光机的自动曝光剂量调节方法，还包括：计算所述预曝光图像上一感兴趣区域的平均灰度值DEXI；获取所述探测器的灵敏度FDsens；其中，通过如下公式计算所述探测器端的预曝光剂量DoseT-PRE：DoseT-PRE＝DEXI/FDsens。5.一种计算机存储介质，所述计算机存储介质中存储有程序指令，所述程序指令能够被运行来实现如权利要求1-4中任一项所述的方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：李莉，
申请(专利权)人：上海西门子医疗器械有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31