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一种漏电过程自控的凹入式沟道动态随机存储器单元制造技术
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文档序号:21752621
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本实用新型涉及一种具有漏电过程自控能力的凹入式沟道(Recessed Channel)动态随机存储器(Dynamic Random Access Memory,DRAM)单元。其结构主要包括凹入式沟道(Recessed Channel)鳍式...
该专利属于刘文剑所有,仅供学习研究参考,未经过刘文剑授权不得商用。
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