温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及一种耐候性提高剂，含有化合物(A)和化合物(B)，化合物(A)为具有下述结构(1)的化合物，化合物(B)为具有下述结构(2)的化合物或其盐。通过该耐候性提高剂，在太阳光长时间暴露下、人工光长时间暴露下和高温高湿条件下均能够抑制使用...
该专利属于星光ＰＭＣ株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过星光ＰＭＣ株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。