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本发明公开了一种PVD镀膜产线磁控溅射的磁场分布方法，包括真空室，四根柱靶，两个中频输出端，所述四根柱靶位于所述真空室内并呈四边形分布，其中位于所述四边形一边的其中两根柱靶与其中一个中频输出端电连接，位于所述四边形另一边的另两根柱靶与另一个...
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