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剥离层的制造方法技术
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文档序号:21720699
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本发明提供剥离层的制造方法,其包含将剥离层形成用组合物涂布于基体上、在最高温度450~550℃下进行烧成的工序,所述剥离层形成用组合物包含由下述式(1A)~(1C)表示的聚酰胺酸中的至少一种和有机溶剂。...
该专利属于日产化学株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过日产化学株式会社授权不得商用。
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