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本实用新型公开了一种可提升氧化炉炉口硅片氧化膜厚均匀性的装置，包括石英炉门和连接着石英炉门用于硅片氧化的石英管，位于所述石英管管口位置分别设有石英管测压口和补气进气口，所述石英管测压口和补气进气口之间连接有进量控制系统；所述进量控制系统包括...
该专利属于湖南艾科威智能装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖南艾科威智能装备有限公司授权不得商用。

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