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本发明涉及用于碳离子注入的方法和系统，其包括利用三氟化磷(PF3)作为氧化碳气体的共伴气体，在某些实施方案中，这与镧钨合金离子源组件组合有利地尽量减少阴极306和阴极护罩316的氧化。此外，观察到电弧腔室300内部组件上可接受水平的积碳以及...
该专利属于艾克塞利斯科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过艾克塞利斯科技公司授权不得商用。

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