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本发明公开了形成在溅射室部件的至少一部分上的溅射阱，其具有多个颗粒以及带有至少两种不同分布的粒度分布曲线图。还提供形成溅射阱的方法，所述溅射阱具有带有至少两种不同分布的粒度分布曲线图。...
该专利属于霍尼韦尔国际公司所有，仅供学习研究参考，未经过霍尼韦尔国际公司授权不得商用。

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