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一种提高金属氧化物半导体材料气敏性能的方法技术
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文档序号:21568900
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本发明涉及半导体材料技术领域,具体公开了一种提高金属氧化物半导体材料气敏性能的方法,该方法包括以下具体步骤:将加入有催化剂且粒径为2~7nm的贵金属量子点置于浓度为55%的酒精溶液中超声波分散20~40min后,滴加到金属氧化物半导体材料中...
该专利属于梁士明所有,仅供学习研究参考,未经过梁士明授权不得商用。
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