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本申请公开一种可饱和吸收体制备方法、可饱和吸收体及锁模激光器。其中，可饱和吸收体制备方法包括：通过磁控溅射法在石英衬底上沉积铂元素薄膜；将所述铂元素薄膜放置于管式炉中进行热处理以获取二硒化铂薄膜，其中，所述热处理中，管式炉上游低温区放置高纯...
该专利属于香港理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过香港理工大学授权不得商用。

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